セイコーエプソンは、新研究開発拠点である「デバイス開発棟」を8日、オープンさせた。これまで数カ所に点在していた研究開発や生産技術の本部を集約し、相互向上を狙う。2002年にはこの拠点で開発する低温ポリシリコンTFT液晶の量産化にメドをつける計画だ。

　 新拠点は、長野県諏訪郡富士見町の同社富士見事業所内に設置した。延べ4万平方メートルの内部には研究開発と生産技術の両開発本部のほか、半導体事業部、液晶表示体事業部などから約360人を集め、一貫技術と量産検証ラインも設置。新デバイス群の創出を図っていく、という。

　 デバイス開発棟建設への投資額は300億円。高精細低消費電力型液晶パネル、薄膜デバイス、次世代半導体デバイスなどを研究していく。